Компания Kemi предлагает системы химического осаждения из газовой фазы кластерного и пакетного типов, а также системы, специально разработанные для разработки, от систем PE-CVD, необходимых для осаждения аморфного кремния и пассивных пленок, до систем CVD для металлов и термического CVD.
| Элемент | Описание |
| Модель | TFE – 1200 – 50 – 220 |
| Расчетная температура | 1150℃ (кратковременно) |
| Номинальная температура | 1100℃ |
| Рекомендуемая скорость нагрева | ≤10℃/мин |
| Точность контроля | ±1℃ |
| Размер трубки | Φ30/50/60*1200 мм |
| Размер камеры | Φ80*220 мм |
| Длина зоны нагрева | 220 мм |
| Длина зоны постоянной температуры | 80 мм |
| Нагревательный элемент | Высококачественная отечественная резистивная проволока |
| Номинальная мощность | 3 кВт |
| Система газоснабжения | Три способа высокоточных МТЭ Диапазон производительности: 0–500 ст.см3/мин (настраивается) |
| Источник питания радиочастотного диапазона | Мощность радиочастотного излучения: 5–500 Вт; Радиочастота: 13,56 МГц; Метод сопоставления: Автоматическое сопоставление |
| Вакуумная система | Двухступенчатый роторно-лопастной вакуумный насос (возможно изготовление на заказ с диффузионным насосом, молекулярным насосом и т. д.) |
| Размеры | 1250*510*810 мм |
