PE-CVDシステム

高性能高周波電源により、プラズマの安定性が向上します。スライドレール構造により、反応室全体をグロー生成領域内に収めることができます。急速加熱・冷却機能も実現し、従来の化学気相成長（CVD）と比較して、より低い成長温度で動作します。

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共有：

Kemiは、クラスター型およびバッチ型の化学気相成長システムを提供するほか、a-Siやパッシブ膜の堆積に不可欠なPE-CVDシステムから金属CVD、熱CVDシステムまで、開発向けに特別に設計されたシステムも提供しています。

アイテム	説明
モデル	TFE – 1200 – 50 – 220
設計温度	1150℃（短期）
定格温度	1100℃
推奨加熱速度	≤10℃/分
制御精度	±1℃
チューブサイズ	Φ30/50/60*1200mm
チャンバーサイズ	Φ80×220mm
加熱ゾーンの長さ	220mm
定温ゾーンの長さ	80mm
加熱要素	高品質の国産抵抗線
定格出力	3KW
ガス供給システム	高精度MFCの3つの方法範囲: 0 – 500 sccm (カスタマイズ可能)
無線周波数電源	無線周波数電力：5～500W 無線周波数: 13.56 MHz; マッチング方法：自動マッチング
真空システム	2段ロータリーベーン真空ポンプ（拡散ポンプ、分子ポンプ等にカスタマイズ可能）
寸法	1250×510×810mm

メーカーですか？

はい、当社は実験器具メーカーであり、主な製品は撹拌反応器、光触媒反応器、水熱反応器、管状炉、箱型炉などの圧力容器です。
ロゴやパッケージをカスタマイズできますか？

はい、弊社には専門的な製品設計、研究開発の担当者がおりますので、お客様のご要望に応じて設計、製造、納品を完了することができます。
技術的なサポートを受けることはできますか?

当社の製品の使い方が分からない場合はいつでもご連絡ください。操作ビデオや技術スタッフによるオンラインガイダンスが提供されます。