تقدم شركة Kemi أنظمة الترسيب الكيميائي للبخار من النوع العنقودي والنوع الدفعي، بالإضافة إلى أنظمة مصممة خصيصًا للتطوير، بدءًا من أنظمة PE-CVD الضرورية لترسيب a-Si والأغشية السلبية وصولًا إلى أنظمة الترسيب الكيميائي للبخار المعدني وأنظمة الترسيب الكيميائي للبخار الحراري.
| غرض | وصف |
| نموذج | TFE – 1200 – 50 – 220 |
| درجة الحرارة التصميمية | 1150 درجة مئوية (على المدى القصير) |
| درجة الحرارة المقدرة | 1100 درجة مئوية |
| معدل التسخين الموصى به | ≤10 درجة مئوية/دقيقة |
| دقة التحكم | ±1 درجة مئوية |
| حجم الأنبوب | Φ30/50/60*1200 مم |
| حجم الغرفة | Φ80*220 مم |
| طول منطقة التدفئة | 220 مم |
| طول منطقة درجة الحرارة الثابتة | 80 مم |
| عنصر التسخين | سلك مقاومة محلي عالي الجودة |
| القدرة المقدرة | 3 كيلو واط |
| نظام إمداد الغاز | ثلاث طرق لتصنيع خلايا الوقود الميكروبية عالية الدقة النطاق: 0 – 500 سم مكعب/دقيقة (قابل للتخصيص) |
| مصدر طاقة بترددات الراديو | طاقة التردد اللاسلكي: 5 – 500 واط؛ التردد اللاسلكي: 13.56 ميجاهرتز؛ طريقة المطابقة: المطابقة التلقائية |
| أنظمة التفريغ | مضخة تفريغ دوارة ثنائية المراحل (قابلة للتخصيص بمضخة انتشار، مضخة جزيئية، إلخ). |
| أبعاد | 1250 × 510 × 810 مم |
